Objektiv Epiplan 50x/0,65 W0,8"
Objektiv Epiplan 50x/0,65 W0,8"
Artikelnr.: 442060-9901-000Objektiv Epiplan 50x/0,65 W0,8" (a=1,6mm)
Vollständige BeschreibungDieses Objektiv eignet sich für einfache Polarisationsanwendungen.
Vergrößerung | 50x |
Numerische Apertur | 0.65 |
Arbeitsabstand [mm] | 1.6 |
Deckglasdicke [mm] | 0 |
Gewindetyp | W0.8x1/36" |
Immersion | Ohne Immersion |
Sehfeld [mm] | 20 |
Abgleichlänge [mm] | 45.00 |
Großer Arbeitsabstand | |
Korrektionsring | |
Iris | |
Optisches System | Infinity Color Corrected System (ICS) |
Farbkorrektur | achromatisch |
Biomedizinische Anwendungen | |
---|---|
Fluoreszenz | |
- Multichannel | |
- Ultraviolett-Transmission | |
- Infrarot-Transmission | |
Hellfeld | |
DIC [Differentieller Interferenzkontrast] | |
High Contrast DIC | |
PlasDIC | |
Phasenkontrast | |
VAREL-Kontrast | |
Hoffman Modulation Contrast | |
Polarisationskontrast | |
Material- (Auflicht) Anwendungen | |
Hellfeld | |
Hellfeld/Dunkelfeld | |
Auflicht-DIC | |
High Contrast DIC | |
DIC mit zirkular-polarisiertem Licht | |
Totalinterferenz-Kontrast | |
Polarisationskontrast | |
Optionen | |
Definite Focus.2 | |
Konfokale Mikroskopie | |
- Ultraviolet | |
- VIS (sichtbares Licht) | |
- NLO-IR / 2 Photon | |
Total Internal Reflection Fluorescence | |
Apotome | |
Mikrodissektion |
Hinweis:
Alle Maße in [mm]
mech. working distance = mechanischer Arbeitsabstand
cover glass = Deckglas
object plane = Objektebene
object field = Objektfeld
illumination = Ausleuchtung
specimen accessibility = Probenzugänglichkeit
Hinweis:
Bitte beachten Sie, dass es sich hierbei um durchschnittliche Werte handelt. Auf Grund von Produktionstoleranzen kann es zu Abweichungen bis zu ca. 5% kommen.
Universalobjektive in der technischen Mikroskopie für die Verfahren Hellfeld, Differential-Interferenzkontrast und Polarisation. Die HD-Versionen sind zusätzlich für Dunkelfeld vorgesehen. Sie besitzen große Arbeitsabstände, die für Werkstoffuntersuchungen von besonderer Bedeutung sind.
Objektiv Epiplan 50x/0,65 W0,8" (a=1,6mm)