Objektiv LD C Epiplan-Neofluar 100x/0,75 DIC M27

Objektiv LD C Epiplan-Neofluar 100x/0,75 DIC M27

Artikelnr.: 422492-9801-000
Beschreibung

Objektiv LD C Epiplan-Neofluar 100x/0,75 DIC M27 (a=4,0mm) Optimiert für 405 nm

Vollständige Beschreibung

Optimiert für 405 nm

Vergrößerung 100x
Numerische Apertur 0.75
Arbeitsabstand [mm] 4
Deckglasdicke [mm] 0
Gewindetyp M27x0.75
Immersion Ohne Immersion
Sehfeld [mm] 25
Abgleichlänge [mm] 45.00
Großer Arbeitsabstand Ja
Korrektionsring
Iris
Optisches System Infinity Color Corrected System (ICS)
Farbkorrektur semi-apochromatisch
Biomedizinische Anwendungen
Fluoreszenz Ja
- Multichannel
- Ultraviolett-Transmission
- Infrarot-Transmission
Hellfeld Ja
DIC [Differentieller Interferenzkontrast]
High Contrast DIC
PlasDIC
Phasenkontrast
VAREL-Kontrast
Hoffman Modulation Contrast
Polarisationskontrast
Material- (Auflicht) Anwendungen
Hellfeld Ja
Hellfeld/Dunkelfeld
Auflicht-DIC
High Contrast DIC
DIC mit zirkular-polarisiertem Licht
Totalinterferenz-Kontrast
Polarisationskontrast
Optionen
Definite Focus.2
Konfokale Mikroskopie Ja
- Ultraviolet
- VIS (sichtbares Licht)
- NLO-IR / 2 Photon
Total Internal Reflection Fluorescence
Apotome
Mikrodissektion
  • DIC-Schieber EC EPN 100x/0,90/50x/0,80 HC/LD EC EPN 100x/0,75
    DIC-Schieber EC EPN 100x/0,90/50x/0,80 HC/LD EC EPN 100x/0,75
    Artikelnr.: 000000-1170-902
  • Objektivring ACR für Objektivhülse zylindrisch kurz
    Objektivring ACR für Objektivhülse zylindrisch kurz
    Artikelnr.: 424508-0000-000
Technische Zeichnung
Transmissionskurve
LD EC Epiplan-Neofluar

LD EC Epiplan-Neofluar: Diese Objektive ergänzen die Reihe der EC Epiplan-Neofluar Objektive durch ihren höheren Arbeitsabstand.

Objektiv LD C Epiplan-Neofluar 100x/0,75 DIC M27 (a=4,0mm) Optimiert für 405 nm